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            光澤度儀量化陶瓷釉的光澤度優(yōu)化生產(chǎn)工藝

            時(shí)間:2024-07-09??來(lái)源:光澤度儀?? 作者:3nh?? 點(diǎn)擊: 601 次
              

            陶瓷釉的光澤度是檢驗(yàn)陶瓷釉產(chǎn)品外觀品質(zhì)的重要指標(biāo),它反映表面的平整光滑程度,釉面越光滑平整,其光澤度越好。為了準(zhǔn)確的量化陶瓷釉的光澤度,優(yōu)化陶瓷釉的生產(chǎn)工藝,就可以使用光澤度儀。本文介紹了光澤度儀在陶瓷釉光澤度量化中的應(yīng)用。

            陶瓷釉

            陶瓷釉光澤度介紹:

            陶瓷釉是覆蓋在陶瓷制品表面的無(wú)色或有色的玻璃態(tài)薄層,釉層中除玻璃體外,還含少量氣泡、未熔石英顆粒以及冷卻時(shí)析出的晶體,它能賦予陶瓷平滑而光澤的表面。

            當(dāng)光線(xiàn)投射到物體上時(shí),它既會(huì)按照反射定律向一定方向反射,又會(huì)散射。若表面光滑平整,則光線(xiàn)在鏡面反射方向上的強(qiáng)度比其它方向要大,因而光亮得多。若表面粗糙不平,則光線(xiàn)向各個(gè)方向漫反射,表面半光或無(wú)光。由此可見(jiàn),物體的光澤主要是由該物體鏡面反射光線(xiàn)引起的,它反映表面的平整光滑程度。光澤度就是鏡面反射方向光線(xiàn)的強(qiáng)度占全部反射光線(xiàn)強(qiáng)度的系數(shù)。因此,釉面越光滑平整,其光澤度越好。

            另外,瓷釉主要由玻璃相組成,其中所含極少量的氣泡、未熔石英顆粒及冷卻過(guò)程中析出的晶體都會(huì)大大降低釉面光澤度。玻璃相越均勻,釉面鋪展越平,則釉面的光澤度就越好。

            從上可以看出,在陶瓷釉的生產(chǎn)過(guò)程中,多種因素會(huì)影響陶瓷釉的光澤度,因此,對(duì)陶瓷釉光澤度進(jìn)行量化,優(yōu)化生產(chǎn)工很有必要。


            光澤度儀量化陶瓷釉的光澤度優(yōu)化生產(chǎn)工藝:

            各種物體對(duì)于投射在它上面的光,進(jìn)行選擇性反射和選擇性吸收。不同的物體對(duì)各種不同波長(zhǎng)的光的反射、吸收及透過(guò)程度不同,反射方向也不同,就產(chǎn)生了各種物體不同的光澤度。陶瓷釉的光澤度通常指的就是其表面對(duì)光的鏡面反射能力,它不僅取決于陶瓷釉表面特性,還與照明光源和觀察的角度有很大關(guān)系。為了準(zhǔn)確的測(cè)定陶瓷釉的光澤度,就可以使用數(shù)字光澤度儀。

            光澤度儀是一種用于測(cè)量物體表面光澤度的儀器。其工作原理主要是利用光的反射與散射特性來(lái)評(píng)估物體表面的光澤程度。光澤度儀工作時(shí),首先會(huì)發(fā)射一束光線(xiàn)到待測(cè)物體的表面上。該光線(xiàn)會(huì)在物體表面發(fā)生反射和散射。其中,反射光線(xiàn)指的是光線(xiàn)按照相同的角度從物體表面反射出去,而散射光線(xiàn)則是以不同的角度發(fā)射出去。

            光澤度儀會(huì)收集到反射光線(xiàn)和散射光線(xiàn),并分別進(jìn)行測(cè)量和分析。測(cè)量反射光線(xiàn)可以得到物體表面的鏡面反射率,即物體對(duì)于入射光線(xiàn)的反射情況。而分析散射光線(xiàn)可以確定物體表面的散射率,即物體表面光線(xiàn)發(fā)散的程度。

            根據(jù)物體表面的鏡面反射率和散射率,光澤度儀可以計(jì)算得到物體的光澤度值。光澤度值通常在0-100之間,數(shù)值越高表示物體表面的光澤度越好。

            需要注意的是,光澤度儀的測(cè)量結(jié)果受到環(huán)境光照和觀測(cè)角度的影響。為了準(zhǔn)確測(cè)量物體的光澤度,通常需要在控制好環(huán)境光源和選擇適當(dāng)?shù)挠^測(cè)角度下進(jìn)行測(cè)量。

            對(duì)于陶瓷釉光澤度的檢測(cè),可以采用數(shù)字式光澤度儀測(cè)量,投身角度為60°,光源入射方向?yàn)槠叫杏谔沾捎约y理和垂直于陶瓷釉紋理方向,所用光澤度儀需要遵照ISO-2813,GB9754,GB9966,GB/T13891國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。每個(gè)試件測(cè)3個(gè)點(diǎn),每個(gè)點(diǎn)測(cè)2次,取平均值作為測(cè)定值。


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